低氣壓等離子體發生器是一種低氣壓氣體放電裝置,一般由三部分組成:產生等離子體的電源、放電室、抽真空系統和工作氣(或反應氣)供給系統。【等離子表面刻蝕】
通常有四類:靜態放電裝置、高壓電暈放電裝置、高頻(射頻)放電裝置(有3種類型)和微波放電裝置。把被處理的固體表面或需要聚合膜層的基體表面置于放電環境中,由等離子體處理。由于低氣壓等離子體為冷等離子體,當氣壓為 133~13.3帕左右時,電子溫度高達10000開,而氣體溫度只有300開,既不致燒壞基體,又有足夠能量進行表面處理。低氣壓等離子體發生器已日益廣泛應用于等離子體聚合、制備薄膜、刻蝕、清洗等表面處理工藝中。【等離子噴槍】
成功的例子如:在半導體制作工藝中,采用氟里昂等離子體干腐蝕,用離子鍍法在金屬表面生成氮化鈦膜等。
70年代以來,低氣壓等離子體對非金屬固體(如玻璃、紡織品、塑料等)的表面處理及改性技術也有迅速發展。【等離子處理機】
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